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❒ 電子束蒸鍍的製作流程
電子束蒸鍍可以使用在高熔點的金屬或氧化物(陶瓷)蒸鍍，一般蒸鍍物質的熔點可以大於1000°C，例如：鈦、鉑等高熔點金屬材料或氧化鎂、氧化鋁等陶瓷材料(陶瓷材料最大的特性就是熔點高)，通常用來製作眼鏡鏡片上的抗紫外線薄膜或多層膜、薄膜濾光片等光學元件。
以成長氧化鎂(MgO)多晶薄膜為例，如＜圖一＞所示，其製作步驟如下：
1.將玻璃片放在電子束蒸鍍機台的晶圓座下方，做為基板(Substrate)。
2.將氧化鎂(MgO)固體放在石墨坩堝(鍋子)內。
3.以電源供應器加熱鎢絲產生電子束，並且以磁場控制電子束的方向照射氧化鎂(MgO)固體，使氧化鎂固體熔化而產生蒸氣向上蒸發。知識力www.ansforce.com。
4.在高真空下，氧化鎂分子會蒸發在玻璃基板上沉積，形成氧化鎂多晶薄膜。

圖一　電子束蒸鍍(Electron beam evaporation)系統示意圖。

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