將數百萬個電晶體(CMOS)的幾何圖形第一次縮小，以電子束刻寫在石英片上就形成「光罩(Photomask)」，是製作積體電路(IC)非常重要的工具，由於電子束的直徑大約1μm(微米)，所以用電子束刻在石英片上的圖形線寬大約1μm。