加熱蒸鍍在成長薄膜的過程中沒有化學反應發生，所以屬於物理氣相沉積(PVD)，由於只需要高真空，而且蒸鍍的薄膜可以大量快速地在基板上沉積，成本較低適合工廠大量生產，但是薄膜附著力差，因此高階製程較少使用。