將光罩上的圖形縮小之後轉移到矽晶圓上稱為「圖形轉移(Pattern transfer)」，所使用的方法稱為「黃光微影(Photolithography)」，其步驟與光罩的製作很類似，但是這裏使用「紫外光」而不是「電子束」，因為使用紫外光可以快速曝光大量進行圖形轉移，而使用電子束只能慢慢刻寫。