將某一種原子直接射入矽晶圓，使摻雜原子分佈在矽晶圓中稱為「離子佈植(Ion implantation)」，類似將子彈直接打到牆壁裡一樣。被植入矽晶圓的雜質原子就可以形成N型或P型兩種不同性質的半導體，這是目前先進製程使用的方式。